국립환경과학원은 26일 오후 경기도 이천시 소재 SK하이닉스 반도체 사업장에서 올해 12월 공개 예정인 반도체제조업 2기 최적가용기법 기준서 마련을 위한 기업 현장 간담회를 개최한다고 밝혔다. 

최적가용기법 기준서(K-BREF, Korea-BAT REFerence document)는 사업장의 통합허가계획서 작성 시 활용되는 참고문헌이다. 주요 내용으로는 업종별 공정 및 오염물질 배출수준, 최적가용기법, 최적가용기법 연계배출수준 등의 내용을 포함한다. 업종별 기술작업반 회의를 통해 마련되며, 보통 기준서 한 권을 만드는 데 3년이 소요된다.

반도체제조업 1기 최적가용기법 기준서는 2019년에 발간됐으며, 이를 바탕으로 작년 12월에 반도체, 웨이퍼, 발광다이오드, 태양광전지 등 반도체 소자를 만드는 총 40개 사업장에서 통합허가를 받았다.

반도체제조업 2기 최적가용기법 기준서는 2022년부터 분류체계 재검토, 최적가용기법 보완, 유망기법 발굴 등을 거쳐 2023년 초안이 마련됐다. 초안 기준서는 기술작업반(TWG)회의를 거쳐 최종안이 마련되고 올해 6월 중앙환경정책위원회의 심의 이후 12월 말에 배포돼 허가재검토 등에 적용된다.

이번 기업 현장 간담회는 최신기술동향 파악, 최적가용기법 및 유망기법 발굴, 기준서 개정 요구사항 등 사업장의 의견을 수렴하기 위해 마련됐다. 

간담회에서는 반도체 제조공정에서 배출되는 환경오염물질 제거 시설, 온실가스(PFCs) 분해 시설(POU Scrubber)의 운영현황을 파악하고, 기준서에 수록할 폐수처리 최신기법 등이 논의될 예정이다. 

또한 효과적인 환경관리에 대한 의견들은 반도체 기준서 개정판 뿐만 아니라, 내년에 발간될 예정인 환경에너지경영 등 신규 기준서에도 반영될 계획이다.

금한승 국립환경과학원장은 “반도체 업계와 지속적인 소통과 협업을 통해 최적가용기법 기준서가 국내뿐 아니라 통합허가를 시행하는 전 세계에서 유용하게 활용되고, 최신 기술도 반영될 수 있도록 기준서 마련에 최선을 다하겠다”고 전했다.