[미디어펜=조한진 기자]삼성전자가 평택 반도체 라인의 본격 가동 함께 반도체‧디스플레이 생산라인 증설 등에 37조원 이상을 투자한다. 삼성전자는 부품 사업 경쟁력을 확보는 물론, 일자리 창출과 정보기술(IT) 전후방 산업 육성에 적극적으로 나선다는 계획이다.
삼성전자는 4일 평택 반도체 단지에서 제품 출하식을 갖고 최첨단 3차원 V낸드 플래시 양산을 시작했다고 밝혔다.
|
|
|
▲ 삼성전자는 4일 평택 반도체 단지에서 주요 경영진과 임직원 100여 명이 참석한 가운데 제품 출하식을 갖고, 최첨단 3차원 V낸드 양산을 시작했다. 왼쪽부터 안정수 상무, 백홍주 전무, 진교영 부사장, 김기남 사장, 권오현 부회장, 이상훈 사장, 황득규 부사장, 정영호 상임위원(메모리사업부 노사협의회) /사진=삼성전자 제공 |
이날 출하식에는 권오현 삼성전자 대표이사 부회장, 김기남 반도체총괄 사장, 디바이스솔루션(DS)부문 각 사업부장 등 주요 경영진과 임직원 100여명이 참석했다.
권 부회장은 격려사를 통해 “평택 반도체 단지는 삼성전자 반도체의 미래를 위한 새로운 도전"이라며 "그 첫 도전을 성공적으로 준비해 준 임직원과 협력사에게 감사의 뜻을 전한다"고 말했다.
삼성전자 평택 반도체 라인은 단일 라인 기준 세계 최대 규모다. 지난 2015년 5월 착공해 2년만에 완공됐으며, 건설 현장에 일평균 1만2000여명의 근로자가 투입됐다.
이 시설에서 생산되는 제품은 4세대 64단 V낸드 플래시 제품이다. 삼성전자는 이번 가동을 시작으로 지속적인 생산설비 확충을 통해 메모리 시장 경쟁력을 강화한다는 계획이다.
최근 글로벌 반도체 시장은 최첨단 제품의 수요확대로 정보기술(IT) 고객사들이 물량확보에 어려움을 겪고 있다. 데이터센터, 빅데이터, 인공지능(AI), 오토모티브 등 미래 IT 시장에서도 첨단 반도체 수요는 지속적으로 확대될 것으로 전망된다.
삼성전자 측은 “이 같은 시장 상황을 감안해 국내외 생산 거점에 적극적인 투자를 추진해 생산능력을 확대하고, 글로벌 IT 고객들의 반도체 수요 확대에 적극적으로 대응해 나갈 계획”이라고 설명했다.
우선 삼성전자는 이번에 가동을 시작한 평택 1라인에 대한 증설에 나설 예정이다. 기존 투자금액(15조6000억원)을 포함, 2021년까지 총 30조원 규모의 투자를 단행할 방침이다.
아울러 삼성전자는 화성사업장에도 6조원을 투입, EUV 등 첨단 인프라에 최적화된 신규라인을 확보해 미래 반도체 시장을 준비할 예정이다.
|
|
|
▲ 삼성전자 평택캠퍼스 반도체 생산라인 외경 /사진=삼성전자 제공 |
또 삼성전자는 중국 시안(西安)에 반도체 라인 추가 건설도 검토하고 있다. 지난 2014년 완공된 시안 반도체 라인은 현재 100% 가동 중이다. 삼성전자는 '규모의 경제'를 확보하기 위해 추가 라인건설로 낸드플래시 최대 수요처인 중국시장에 대응한다는 계획이다.
삼성디스플레이도 충청남도 아산지역에 유기발광다이오드(OLED) 신규단지 인프라 건설을 계획하고 있다.
삼성디스플레이는 2018년까지 아산 2단지 건설에 착수하기로 한 충청남도와의 단지건설 협약을 준수하고, 시장상황에 탄력적으로 대응하기 위해 부지 및 인프라 시설 투자를 계획하고 있다.
삼성전자와 삼성디스플레이의 이번 대규모 투자를 통해 경기도 기흥‧화성‧평택과 충청남도 아산에 이르는 첨단 부품 클러스터 구축으로 국내 장비‧소재 산업과의 동반성장은 물론 후방 산업 생태계 활성화를 통해 연구개발(R&D) 및 서비스 등 고급 기술인력 수요도 확대될 전망이다.
한편 삼성전자와 삼성디스플레이의 투자에 따른 직간접적인 경제 파급효과를 고려하면 2021년까지 생산유발효과 163조원 고용유발효과 44만명(한국은행 산업연관표, 생산유발/고용유발 계수 기준)이 예상된다.
|
|
|
▲ 삼성전자 4세대 V낸드플래시 제품 /사진=삼성전자 제공 |
[미디어펜=조한진 기자]
▶다른기사보기